Picosun集团是工业生产中先进ALD(原子层沉积)薄膜涂层技术的领先供应商，该公司报告了固态3D薄膜电池中保形ALD涂层的优异结果。
固态薄膜电池越来越多地被用于便携式和可穿戴电子产品，如智能手机、平板电脑、智能手表、自主传感器，以及可植入医疗设备。这些电池必须结合小、紧凑的尺寸和高能量密度，这就是为什么下一步是从平面电池几何到三维电池。在3D薄膜电池中，纳米结构、波纹状高纵横比(HAR)结构成倍增加了电池的活性表面积，从而提高了电池的电荷存储容量。
需要先进的制造方法来制造这些结构内部的功能层，如电极和固体电解质。ALD能够在HARs内部创造最高质量的保形材料层，甚至高达1:3000，因此显示了3D薄膜电池制造的巨大潜力。Picosun的高纵横比ALD已经在工业规模的各种半导体和MEMS应用中得到应用，现在它已经成功地用于制造固态3D薄膜电池电极。标准的PICOSUN ALD反应器配置和优化的工艺参数已经取得了出色的结果，但对于更具有挑战性的HAR涂层需求，PICOSUN的专利Picoflow™扩散增强技术是理想的。
“便携式和可穿戴电子产品的迅速普及，创造了对紧凑和嵌入式能源的需求，以驱动这些设备。固态3D薄膜电池是这方面的有力候选人，我们Picosun很高兴向制造商介绍我们的ALD解决方案。值得注意的是，即使使用我们的基本ALD，我们也能够在电池具有挑战性的HAR结构内创建具有最高一致性的功能层，而且我们的方法很容易扩展到大批量工业生产。而且，当这些结构在纳米尺度上变得更加复杂时，我们的Picoflow™技术将确保高质量的沉积结果，并具有行业验证的可靠性，”Picosun集团总经理Juhana Kostamo先生总结道。