经过凯恩卡纳，马2019年7月18日
解放军的公司(纳斯达克:KLAC)宣布392x和295x光学缺陷检测系统和eDR7380™电子束缺陷审查系统。
图像信用：Genkur / Shutterstock.com
新的检测系统是该公司的旗舰模式晶圆平台的扩展，在速度和灵敏度方面的进步定义了光学检测。新的电子束审查系统引入了创新，巩固了其作为缺陷和来源之间的关键环节的价值。该产品组合旨在加速领先的3D NAND、DRAM和逻辑集成电路(ICs)在整个产品生命周期的上市时间。
“”制造下一代内存和逻辑芯片有利可图需要前所未有的过程控制。设备结构较小，更窄，更高，更深，具有更复杂的形状和新材料。欧洲杯足球竞彩歧视来自噪声的良性物理变异信号 - 已经成为一个难以置信的难题。我很高兴宣布，我们的光学和电子束工程团队开发了一个创新，关联的缺陷检查和审查系统家庭，旨在使我们的行业继续前进。“
艾哈迈德·汗，KLA全球产品集团执行副总裁。
通过利用宽带等离子体照明技术，传感器架构和芯片设计信息集成来实现392倍和295倍的光学图案化晶片缺陷检查系统通过利用宽带等离子体照明技术，传感器架构和芯片设计信息的集成来实现无与伦比的灵敏度，吞吐量和产量相关的分衬。因此，新系统提供更快的缺陷发现，加速产量学习，比其行业领先的前辈更全面的内联监测。392X和295倍的系统使用不同的波长范围来覆盖所有层的检测应用，通过金属化从浅沟槽隔离，包括EUV光刻质量控制。
具有一流的图像质量和在一个测试中提供完整缺陷Pareto的独特能力，EDR7380电子束晶圆缺陷审查系统提供了更快的开发，更快的偏移检测，更准确，可操作的数据在生产过程中更快的缺陷。该系统配备了对脆弱EUV光刻工艺层的审查。对KLA检查员的独特连锁缩短了结果的时间，可以访问广泛的KLA特定应用，并通过智能采样和高效交换缺陷数据来提高检查灵敏度。
392X，295倍和EDR7380系统可作为新系统或从上一代39xx，29xx或EDR7xxx系统的升级。这些系统旨在用于保护FAB资本投资的未来可扩展性。
所有新系统都在全球领先的IC制造商运营，在那里他们共同努力，使创新的电子设备制造得品。为了保持芯片制造商所需的高性能和生产力，392倍，295倍和EDR7380系统被支持KLA的全球综合服务网络。有关新的缺陷检验和审查系统的更多信息，可以找到投资组合信息页面。