对外来硅相稳定性的新观察表明，某些类型的硅在比以前认为的高得多的温度下是稳定的。由于高温处理在光电器件的开发中是常见的，这对这些新型硅在未来太阳能材料中如何使用具有积极意义。欧洲杯足球竞彩
在《应用物理杂志》上发表的一篇论文中，澳大利亚国立大学、墨尔本大学、橡树岭国家实验室和拉古纳大学的研究人员发现，通过压痕获得的亚稳态硅态在450°C的温度下仍然保持稳定。该研究阐明了这些压痕形成的硅相是如何通过亚稳态结构(如r8-Si)演变成纳米晶相(如hd-Si和Si-XIII)的。
执行研究澳大利亚国立大学的Sherman Wong（现在在RMIT大学担任研究员）说：“这项工作使我们能够在温度的函数中显示硅样品的拉曼光谱的差异，这让我们可以看到当不同的阶段开始出现或消失。当Si-XIII开始出现时，我们特别感兴趣，因为它是一个完全新的阶段，以及我们在HD-Si消失之前需要高的温度。令人兴奋的是，在450°C下，HD-Si稳定，因为在该温度下加工了现代SI器件。“
这项工作的关键是三种不同退火方法的比较：炉，激光和热级斜坡退火。研究人员归因于硅相变的新的更准确的温度读数部分由于其温度测量的精度提高，以及更好地理解样品中的稀疏行为。
对于热阶段退火，采用Linkam THMS600温度控制阶段精确控制氮环境下的退火温度。温度阶段也用于在一定温度范围内执行原位拉曼显微镜。
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