创建用于传感器和塑料涂层的氧化锌层的新过程
7月2日2020年
基于Bochum的团队为氧化锌层开发了一个新的工艺，该过程可用于氮氧化物传感器以及塑料上的保护层。
氧化锌层在工业中的应用是多种多样的，从可降解商品的保护到检测有毒的氮氧化物气体。可以通过原子层沉积（ALD）沉积此类层，该原子层沉积（ALD）通常采用通常化合物或简单的前体，它们在与空气接触时立即点燃，即高度热量。
Ruhr-UniversitätBochum（Rub）的一个跨学科研究团队现已建立了基于非流传锌前体的新制造过程，可以在足够低的温度下处理，以允许塑料涂层。该团队在期刊上发布了他们的报告小的，在2020年6月4日的版本中，它被作为封面故事。
氧化锌层在工业中的应用是多种多样的，从可降解商品的保护到检测有毒的氮氧化物气体。可以通过原子层沉积（ALD）沉积此类层，该原子层沉积（ALD）通常采用通常化合物或简单的前体，它们在与空气接触时立即点燃，即高度热量。
Ruhr-UniversitätBochum（Rub）的一个跨学科研究团队现已建立了基于非流传锌前体的新制造过程，可以在足够低的温度下处理，以允许塑料涂层。该团队在期刊上发布了他们的报告小的，在2020年6月4日的版本中，它被作为封面故事。
沉积超薄层
为了产生用于二氧化氮（NO2）的传感器，必须将纳米结构的氧化锌（ZnO）薄层应用于传感器底物，然后集成到电气成分中。Anjana Devi教授的团队使用ALD在此类传感器基板上应用超薄的ZnO层。
通常，在行业中，使用ALD过程来使用超薄层微型电动组件，其中一些层仅是少数原子层厚的，同时提高了它们的效率。
为此，需要合适的前体，以形成这种薄膜。“因此“指出Anjana Devi。
安全处理和最高质量
迄今为止，工业制造商通过ALD部署了极其反应性，高度热的锌前体来生产ZnO薄膜。
“开发Zno At Rub的安全替代ALD过程的关键是开发一种新的，非冲突的前体，该前体可以安全处理，并能够沉积最高质量的ZnO薄膜。”该研究的主要作者卢卡斯·迈（Lukas Mai）解释说。“面临的挑战是找到替代化学物质来代替ZnO行业通常使用的热量化合物。”
新过程的独特方面是可以在非常低的过程温度下执行，从而促进沉积到塑料上。因此，新工艺不仅可以用于制造气体传感器，还可以用于气势屏障层。在包装行业中，此类层被应用于塑料上，以保护诸如食品或药品之类的可降解商品免受空气的侵害。
合作伙伴
由于自然科学家和工程师的跨学科合作，这项研究可以进行。该小组包括由Anjana Devi教授和电气工程和等离子技术领导的研究小组，由Peter Awa欧洲杯足球竞彩kowicz教授，Heinrich-Heine-Heine-Heine-Heine-Universitätdüsseldorf和Paragon公司领导。
资金
该研究是由Funald项目和德国研究基金会的欧洲地区发展基金（EFRE）资助的，作为合作研究中心/Transregio TR87的一部分。Lukas Mai由Stiftung der Deutschen Wirtschaft资助他的博士学位。
原始出版物
Lukas Mai等人：氧化锌：从前体化学到气体传感器：质量原子层沉积工艺工程工程工程工程用于氧化锌层，用于从非流传性锌前体进行气体屏障和传感器应用，在：小的，2020，doi：10.1002/smll.202070122
资源：https://www.ruhr-uni-bochum.de/en
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