Tescan Essence™EBL套件采用了一种软件模块，该软件模块可从Essence™显微镜控制软件中控制电子束光刻（EBL）流程，以实现微型和纳米级结构和设备的有效原型设计。
Tescan alsay持有A.S.宣布释放他们的本质™EBL套件，一个完全集成的专用解决方案，将电子束光刻能力添加到Tescan SEM和FIB-SEM仪器。与Tescan的快速静电束遮光器一起工作，本质™EBL套件为多用户研究实验室提供了一种途径，以满足原型微型和纳米结构和设备的要求，同时还提供SEM和FIB-SEM的成像和分析能力的访问。
用电子束电阻法将测试图样转移到样品上的电子束电阻上
电子束光刻是一种利用聚焦电子束在覆盖有电子敏感膜(抗蚀剂)的表面上绘制图案的技术。这种技术通常用于在各种基底上制备具有特定形状、尺寸和材料组成的微纳米结构的原型，如传感器、光子学、等离子体学、自旋电子学、MEMS、微流体和细胞生长表面。
在大学或其他机构的小型科学研究小组中，仪器通常由多个小组共享，因此在购买新设备时，多功能性、易用性和可靠性是主要考虑因素。2020欧洲杯下注官网通过扩展SEM或FIB-SEM的功能，包括中级电子束光刻应用，TESCAN SEM和FIB-SEM仪器能够满足表征和原型的需要。
Tomáš Šamořil, ToF-SIMS NanoPrototyping特殊应用产品经理
将电子束光刻添加到SEM或FIB-SEM允许研究人员在完成光刻工艺后，利用任何平台的分析能力，以验证结构，尺寸或材料组合物。EBL以及通过聚焦离子束（FIB）提供的精密材料去除和气体喷射系统（GIS）技术被证明是一种强大的组合，可在光子，光学，血管性，磁，生物学，生物学，电子产品中快速原型设计微型和纳米进展。
Tescan本质™EBL套件包括一个与Tescan完全集成的软件模块
本质™显微镜控制软件并使用开源，第三方模式编辑器Klayout来执行所有所需的光刻步骤。这使得操作简便，简化了混合技术设计过程，无复杂的数据处理。
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