Picosun的Picoarmour™降低了半导体制造成本

Picosun Group拥有针对血浆蚀刻的ALD腐蚀保护解决方案的未决专利权利，该解决方案将在吞吐量，薄膜均匀性和结构性方面为半导体制造过程带来好处。与picoarmour^TM值与当今常用的行业解决方案相比，可以更有效地实现腐蚀保护。

晶圆制造过程流量包括几个步骤，需要等离子体蚀刻。使用蚀刻化学物质的必然结果是将工具本身蚀刻。减少工具损伤的常见工业解决方案是将耐腐蚀涂层应用于蚀刻工具，例如使用PVD或用Y进行喷涂涂层₂o_3。与仅使用y相比₂o_3，，picoarmour^TM值启用最多五倍的速度和更具成本效益的生产涂层方式。与Al相比₂o₃，涂层的耐用性可能是五倍。

“ picosun与picoarmour的方法^TM值是结合高度蚀刻的Y₂o₃ALD过程具有更强的ALD过程。高性能ALD腐蚀屏障结合了Al的速度和便利性₂o₃耐用性的过程₂o₃可以通过仔细控制膜组成来实现。使用ALD，可以通过更薄的薄膜来实现保护效果，从而导致物质节省和更环保的过程。”

要了解有关Picoarmour的更多信息^TM值一项研究Picosun与防止血浆损坏有关的保护涂料与Picosun Talk在6月29日上午10:25在EDT的Virtual Ald 2021会议上加入Picosun Talk。在这里注册。

*值取决于沉积和蚀刻参数

来源：https://www.picosun.com/