Atonarp是半导体，医疗保健和制药行业的分子传感和诊断产品的领先制造商，今天宣布了一个具有集成等离子体电离源的创新的原位半导体计量平台Aston。
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Aston是半导体生产过程的计量中的主要演变，使原位分子过程控制能够更有效地运行现有的Fab，驾驶更高的输出。Aston是一款由半导体生产的底层制造，是一个强大的平台，可以取代多种遗留工具，并在一整套应用程序上提供前所未有的控制水平，包括光刻，电介质和导电蚀刻和沉积，室清洁，腔室匹配和减少。
“与Aston一起，我们已经看到了单位过程吞吐量在某些应用中增加了超过40％ - 这是一个很大的改善。即使在典型的工厂生产的生产中，整个FAB吞吐量的增加也可以增加数千万美元的美元，“Prakash Murthy表示，CTO，ATONARP的创始人。
“将阿斯顿到现有的生产过程工具可以在仅需六到八周内提供更大的吞吐量，而在安装新生产设备时可达一年，”2020欧洲杯下注官网没吃。“这将实质上帮助制造商增加其生产水平，并帮助解决目前半导体FAB容量的短缺。”
快速、可操作的端点检测(EPD)是运行半导体工具和晶圆厂最有效的方法。到目前为止，EPD在许多工艺步骤中都无法部署，因为所需的现场传感器无法经受严酷的工艺或腔室清洗化学品的考验，或者可能会受到凝析油沉积的堵塞。历史上，晶圆厂被迫使用一个固定的时间，以确保工艺完成。相反，Aston通过准确检测工艺何时结束(包括腔室清洗)来优化生产，这可以将所需的清洗时间减少80%。
阿斯顿耐腐蚀性气体和气态污染物凝结物。它比现有解决方案更强大，具有独立的双电离来源 - 经典电子碰撞电离源和长丝等离子体离子机器 - 在半导体生产中遇到的恶劣条件下可靠地工作。这使Aston能够原位使用，在苛刻的环境中，传统电子电离器会腐蚀和失败的苛刻的环境。
与传统的质量分析仪相比，Aston提供了服务事件之间的间隔时间，最长可达100倍。它包括自清洗能力，消除了在某些工艺中存在的冷凝物沉积导致的积聚。
因为阿斯顿能产生自己的等离子体，所以不管有没有等离子体，它都能工作。这比光学发射光谱计量技术具有明显的优势，因为光学发射光谱计量技术需要等离子体源来操作，使得Aston成为ALD和某些可能使用弱、脉冲或不使用等离子体处理的金属沉积过程的理想选择。
阿斯顿还通过提供量化的、可操作的、实时的数据，为最苛刻的流程应用提供了强大的机器学习能力，从而提高了流程的一致性。这不仅提高了生产线和产品的产量，还得益于实时数据统计分析和工艺室管理的高精度、灵敏度和重复性。
Aston主要用于化学气相沉积(CVD)和蚀刻应用，这两种应用的年增长率都超过了13%。光谱仪可以在组装过程中安装在新的工艺室中，也可以改装到已经在运行的现有工艺室中。
阿斯顿也可以与PSI一起使用，由ATI韩国开发的智能压力控制器。经过全面，多月的技术可行性评估后，最近的这种组合解决方案由三星购买用于高级过程控制应用。
阿斯顿现在可以评估和订购，通过直接购买或阿那普全球合作伙伴网络．
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