2006年6月14日
Axcelis技术引入了新的最佳状态高清,由Imax,极高的剂量、低能量植入应用程序用于尖端记忆和逻辑设备。扩展公司的新的最适条件高清平台,最适条件高清Imax使用户能够显著提高生产力和减少低能量,高剂量过程次植入的硼,而不是单个原子。第一个Imax-enabled最适条件高清工具将在今年年底开始运输。
“分子植入子- 65 nm的使能技术设备的时代。它允许客户实现生产力目标速度,使某些应用程序——比如双聚盖茨——经济上可行的第一次,”玛丽说彪马Axcelis董事长兼首席执行官。“因为分子植入是基于证明,传统的植入技术,客户没有集成问题发现它很容易实现。Imax技术的美妙之处在于它提供了相同的精度、角度控制和energy-contamination控制客户期望的最适条件高清。”
的energisk B18 H22的最适条件高清Imax植入物分子,包括18硼原子,导致更高的生产率比用户可以实现与传统方法,没有能源污染与光束减速的风险。这种生产力的提高使芯片制造商采取一些新兴趋势,包括双多晶硅栅的应用先进的存储设备和浅逻辑芯片的连接。
介绍了今年早些时候,最适条件高清涵盖所有传统高剂量植入,同时提供重要的中期剂量应用重叠最大的多功能性和资本效率。它提供精确的植入物使用Axcelis先进点波束技术,导致异常植入一致性和可重复性。Axcelis自营RadiusScan端站进一步提高生产力,使系统覆盖非常广泛的剂量范围。Imax源技术可用于所有标准最适条件高清离子注入机。
Axcelis一直在探索分子技术作为一个潜在的候选扩展低能源植入技术自1990年代末。公司利用SemEquip ClusterIon源技术,离子源和离子输送系统的制造商OEM离子注入机市场。
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