TOFWERK兴奋释放ClearFab纯度保证在半导体制造半导体解决方案2022年欧罗巴。这个总理事件是完美的平台,分享我们敏感的飞行时间质量spectrometry-based技术与行业专业人士感兴趣的创新电力半导体行业的下一波增长。
图片来源:TOFWERK
我们在展位- B1467开会讨论ClearFab解决这些关键的用例,包括:
- FOUP监控
- 多口航空系统
- 移动监控
- 沉积、刻蚀和光刻技术监测
敏感、实时化学分析AMC监控和过程气体分析
半导体制造需要材料纯度和含污染物的环境,以确保高质量的产品和产量损失最小化。ClearFab AMC和过程解决方案利用速度和灵敏度TOFWERK的飞行时间质谱分析,以满足要求和不同工厂的应用程序。
ClearFab AMC监控
ClearFab AMC解决方案提供全面覆盖所有关键AMC类别使用新颖的快速交换化学电离飞行时间质谱分析。TOFWERK AMC的解决方案存在的最高灵敏度AMC监控,提供超快的测量速度(1 Hz)和一个可定制的,不会过时的解决方案能够解决几个不同的应用程序在整个工厂。
ClearFab AMC的解决方案是理想的工具,以确保收益增强工厂的设备和系统。了解更多
ClearFab过程气体分析
ClearFab过程解决方案完全集成过程描述和监测系统。使用电子电离飞行时间质谱分析,所有的前兆,副产品,和跟踪物种同时检测指导立即过程控制措施,并告知分析和沉积过程情报,蚀刻,光刻技术。独特的定位来解决具有挑战性的过程要求,
ClearFab流程解决方案提供快速、非侵入性的检测过程的偏差,在真正的时间。了解更多
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