新技术增强记忆能力:蚀刻硅片产生深沟

需求紧缩。电脑正在变得越来越有效率。一项新技术增强记忆能力:蚀刻硅片创建深沟,增加其存储数据的能力。

电脑需要变得越来越有效率。不可避免的,这涉及到需要更多内存设备:他们应该尽可能小,强,快速,经济,和总是保持冷静,如果你请!只有内存模块——在技术术语中称为DRAM——超过其竞争对手在这些地区,有机会未来职业的个人电脑、笔记本电脑、移动通信、娱乐业和巨大的服务器公园的互联网服务提供商。内存业务生成一个全球每年250亿美元的销售额。创新的压力是残酷的,只有制造商最好的技术和最高效的生产方法可以生存。世界第二大供应商的激烈DRAM市场Dresden-based芯片制造商奇梦达。新公司,全资子公司英飞凌,目前生产内存组件基于90纳米技术,和正在努力能够腐蚀结构只有65纳米宽的硅晶圆在不久的将来。

奇梦达支持工程师弗劳恩霍夫研究所陶瓷技术和系统ik(在德累斯顿。领导的研究小组的托拜厄斯Mayer-Uhma,法尔Schlenkrich和Ingolf无尽的已经开发出一种新的抗腐蚀膜,将有可能产生更深层次和更窄的“战壕”,因为它是内存芯片生产的重要区别。经过一系列复杂的处理步骤,如光刻,刻蚀和抛光,抗腐蚀二氧化硅膜,称为“硬掩模”,。这部电影包含了结构的战壕后使用一个蚀刻蚀刻气体。随后填写这样一个战壕与介电材料产生一个电容器。战壕蚀刻,越深越墙表面是可用的和大电容。“我们为制造业提供技术和蚀刻这些面具,“Mayer-Uhma解释道。为了腐蚀越来越深沟,弗劳恩霍夫研究人员正在开发和测试更多的活性气体混合物以及相应的更健壮的屏蔽材料。欧洲杯足球竞彩面具由氮化铝——五倍耐腐蚀气体比二氧化硅——目前正在测试团队的气相沉积设备的修改。

http://www.fraunhofer.de

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