研究人员陷入极端紫外线 - 计算机芯片的潜力

一种佛罗里达州中央大学研究团队已大量涉足建立极端紫外线(EUV),作为制造下一代计算机芯片的主要电源。

该团队由马丁·理查森(Martin Richardson),大学受托人主席和UCF的诺斯罗普·格鲁姆曼(Northrop Grumman)X射线光学教授领导,成功地证明了EUV光源的第一次,其能力是先前记录的尝试的30倍?足以为用于将详细电路图像复制到计算机芯片上的详细电路图像的步进机供电。

为此,成功使用EUV光标志着行业范围内的一个里程碑,为下一代芯片生产创造了最有效,最具成本效益的电源。芯片现在使用更长的波长紫外线制造。

UCF突破是由于英格兰公司的一家公司Richardson和Powerlase Ltd.之间的合作而进行的。该公司为UCF提供了强大的星层激光器,以与UCF团队开发的专业激光等离子源技术相结合。独特的技术结合了激光光对EUV的高转化,并有效消除了与现有EUV等离子体源相关的中性和带电的颗粒。欧洲杯猜球平台如果允许自由流媒体脱离来源,这些颗粒会损害EUV踏板中使用的昂贵光学器件。欧洲杯猜球平台

短波长,只有13.5纳米,并且未污染的光源是步进能力将杂物电路投射到芯片上的能力的关键组件。

Richardson说,为了跟上摩尔定律,这是1965年撰写的计算机行业的命令,估计每两年每两年的计算机芯片上的晶体管数量翻了一番,芯片生产中必须进行重大的技术变化。

理查森说:“我们必须使用足够短的波长的光源,以使芯片上的最小特征大小可能下降至12纳米。”当前的半导体生产行业标准约为65纳米。纳米分数为十亿米;一张纸约100,000纳米厚。

理查森(Richardson)的EUV光子实验室是他运行的高功率激光应用程序的更广泛努力的一部分,它致力于开发EUV光源和高级X射线光学系统。团队成员包括研究生研究助理Kazu Takeoshita;研究生Tobias Schmid,Simi George,Robert Bernath和Jose Cunado;和工程师Somak Teerawattanasook。

2004年对知识产权和设备的捐赠为2200万美元的捐赠提供了帮助,向UCF的光学学院和光子学院提供了超过2200万美元的捐款,以支持Richardson的EUV计2020欧洲杯下注官网划。

理查森说,与Powerlase这样的行业团体的持续合作允许这项工作呈指数进步。

Powerlase战略创新副总裁Samir Ellwi表示:“我们很高兴能够与极端紫外线资源领域的世界领先的学术专家合作。”“我们的高功率,高重复的短脉冲星线酶激光是激光产生的等离子EUV源的理想驱动力。”

http://www.ucf.edu

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