2003年7月30日
国家标准与技术研究所（NIST）今年夏天晚些时候(北半球)将发布一项新的半导体速度测量标准。
锗用于诱导硅晶格中的应力，使电子能够更快地移动，并且在计算机和其他设备中增加设备运行速度。
互动参考材料用于帮助人们校准确定硅锗薄膜中锗的仪器的仪器。测量与已知标准进行比较，这使得制造商能够优化它们的组合物。
新标准将由一系列由行业参与者提供的不同组合物的薄膜组成，并以NIST为特征。
交互式标准具有更多传统标准参考资料的优势，因为它们可以在需要相当快速地提供，即确定需要在需要后1至2年，而标准参考资料约5年。欧洲杯足球竞彩
还要求新标准准确到约1％，而当前可用的技术索赔只有5％的准确性。
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